一、超純水機設計基礎

1.1本方案涉及的流程及設備是為了滿足：貴公司生產工藝用水項目，要求如下：

1.1.1產水用途：半導體用純化用水

1.1.2系統總進水量：預處理：16m³/hr

1.1.3系統出力： 一級RO純水處理：8m³/hr；回收率：50%；

二級RO純水處理：6m³/hr；回收率：60%；

40%的濃水回流至一級RO純水系統

EDI超純水處理：5m³/hr；回收率：90%；

1.1.4終端產水水質：電阻率：≥18MΩ.CM（采用氮封裝置進行保存）

1.1.5運行方式：自動運行（并具備手動操作功能）。

1.1.6供水方式：連續產出（24小時運行）。

1.2本方案主要依據如下：

1.2.1原水水源：自來水

1.2.2原水設計溫度： 25℃

1.2.3原水水質分析：用戶提供的原水水樣（水質分析報告見附件）。

1.2.4設計界線：原水箱裝置進口至成品水箱出口（詳見控制點的工藝流程圖）。

1.2.5其他涉及的設計基礎條件將在技術討論中確定。

1.3系統對外界要求：

1.3.1進水管：進水管送至原水箱裝置入口。

1.3.2供電纜：根據我方提出的容量，由用戶自己負責。

1.3.3出水管：終端濾器產水出口（詳見帶控制點的工藝流程圖）。

1.3.4藥品：調試過程所用的化學試劑消耗品由用戶提供。

1.3.5廢水處理：排至廠房內地溝

原水（DN40）→進水電動閥→原水箱→原水泵→砂濾器→炭濾器→阻垢系統→保安過濾器→ 一級高壓泵→一級RO膜組8.0噸/H→二級高壓泵→PH調節裝置→二級RO膜組5噸/H→EDI泵→EDI系統5噸/H→EDI純水箱（氮封）→純水泵→用水管道入口（DN25）→ 分配系統 →用水點1、2→EDI純水箱